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發(fā)明專利和實(shí)用性專利各自的優(yōu)勢和劣勢是什么

發(fā)明專利優(yōu)劣勢:發(fā)明專利保護(hù)時(shí)間長(20年),有實(shí)質(zhì)審查,專利穩(wěn)定性高,保護(hù)客體多,產(chǎn)品結(jié)構(gòu),方法均可以用發(fā)明專利來保護(hù)。但是授權(quán)時(shí)間長,一般是兩年左右,審查比較嚴(yán)格,相比于實(shí)用新型,授權(quán)率更低。
實(shí)用新型專利優(yōu)劣勢:實(shí)用新型專利授權(quán)快,授權(quán)率高;但是實(shí)用新型只保護(hù)產(chǎn)品的形狀和結(jié)構(gòu),不保護(hù)方法,穩(wěn)定性較差,保護(hù)時(shí)間短(10年)
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